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标准（d）在氮气气氛和15-25℃温度下储存的无封装PSC的PCE演变。更加具体来说，输电在原材料，无毒溶剂和设备简单的情况下，制备高质量和大面积的钙钛矿薄膜仍然是商业和工业应用中的最大挑战。

项目（g）钙钛矿薄膜的晶体生长机理。本研究不仅探讨了通过磁控溅射MSMAPbI3成膜的详细条件，征求也证明了引入Cl可以进一步将器件的PCE提高15%以上。国家工程规范稿使用这种策略可以在几分钟内制备出极其均匀和致密的钙钛矿薄膜。

磁控溅射作为一种成熟的薄膜制备技术，标准已被广泛用于制备金属，金属氧化物和半导体薄膜，在制备PSCs方面具有很大的应用潜力。输电（i）SMMAPbI3-MA,MSMAPbI3-V和MSMAPbI3-P薄膜的稳态光致发光(PL)光谱。

实验结果表明，项目通过磁控溅射制备的钙钛矿薄膜PSCs的功率转换效率(PCE)为6.14%。

（c）MSMAPbI3-xClx-P，征求SMMAPbI3-xClx和SMMAPbI3-xClx-MA薄膜的稳态PL图谱。品牌的力量很难在短期内形成，国家工程规范稿在重新回归理性的大环境下，多年专业做彩电的公司的具有更多胜出的机会。

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